生產先進製程的晶圓片，EUV 光刻機是關鍵之一。而荷蘭 ASML 是全球唯一量產 EUV 光刻機的廠商，台積電、Samsung、Intel 的先進製程晶片都以其 EUV 曝光機生產。目前每部第一代的 EUV 光刻機的價格近 1.5 億美元，而第二代的產品亦已在開發階段。
不過有傳第二代 EUV 光刻機 NXE:5000 研發階段遇到瓶頸，原預計最快 2023 年問世，現在則可能要到 2025 – 2026 年，延後近 3 年，業界憂慮將影響半導體製程開發。而近日日本最大半導體鍍膜蝕刻設備公司東京電子 (Tokyo Electron) 宣佈，在鍍膜、顯影技術上將與 ASML 合作，聯合研發下代 EUV 光刻機。除了東京電子，比利時微電子研究中心 (IMEC) 也是合作夥伴。
東京電子指出，藉著旋金屬抗蝕劑顯示高解像度及高蝕刻電阻，有望使顯影圖案更精細。而含金屬的抗蝕劑需控制複雜的圖案尺寸，以及掌握晶片背面、斜面的金屬污染程度。為了應付挑戰，開發人員正在聯合高 NA 實驗室安裝先進製程模組，處理含金屬抗蝕劑。
