ASML

EUV 生產無望 - 中國半導體企業改為大力加強 DUV 成熟製程產品生產

據外媒報導,中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展,而主因是中國企業受制國際禁令,不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指,因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響,中國的半導體龍頭中芯國際已決定,將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年,並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程,而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的,主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (

未來專注 EUV 技術發展 - Intel 發佈新製程命名 Intel 7、Intel 4 及路線圖

日前 Intel 於會議內公佈了其在晶片製程及封裝的進展,當中包括全新的 CPU 製程路線圖,同時在此可見 Intel 將工藝重新命名了,10nm 命名為 Intel 7,7nm 命名為 Intel 4,未來還會有 Intel 3 及 Intel 20A。 以往由於在這個命名終落後對手,但實際技術上 Intel 的 10nm 製程其實與競爭對手的 7nm 並列,因此對 Intel 的宣傳上很不利。而這次的 10nm Enhanced SuperFin 工藝更命為 Intel 7,但

Q2 財報出爐 - ASML 積壓訂單高達 175 億歐元,第一台新款 NXE: 3600D EUV 光刻機已交付

來自荷蘭的半導體光刻機巨頭 ASML 剛剛公佈了 2021 年 Q2 的財務報表。在這個季度上,ASML 的淨銷售額為 40 億歐元,毛利率為 50.9%,淨收入為 10 億歐元,淨預訂額為 83 億歐元,當中 EUV 光刻機就佔了 49 億歐元,而總積壓訂單金額已高達 175 億歐元。 在財報中 ASML 更透露第一台最新款的 TWINSCAN NXE: 3600D EUV 光刻機已交付客戶,對比之前的 NXE:3400C 生產力提高了 15 - 20%,覆蓋率也提高約 30%。ASML

西方聯盟出口限制 - 美國成功促使荷蘭停止對華發售 ASML 光刻機

據外媒《華爾街日報》的報道,美國政府將延續了特朗普時期對華禁止出口高科技產品的策略。而近日與荷蘭政府聯繫,要求限制 ASML 生產的 EUV 光刻機出售給中國企業。即使受中國強大的壓力,最終荷蘭政府拒發出口許可。 在拜登就任初期,國家安全顧問 John Sullivan 已與荷蘭討論兩國的「先進技術的緊密合作」協議,並有美國官員指繼續限制 ASML 與中國的業務往來是 John 的首要任務。於 2019 年,美方邀請荷蘭外交人員到白宮時,提出「好的盟友不會把將這類先進設備賣往中國」

隊友加入攜手解難 - 有傳 ASML 第二代 EUV 光刻機開發遇瓶頸,東京電子加入提供顯影技術支援

生產先進製程的晶圓片,EUV 光刻機是關鍵之一。而荷蘭 ASML 是全球唯一量產 EUV 光刻機的廠商,台積電、Samsung、Intel 的先進製程晶片都以其 EUV 曝光機生產。目前每部第一代的 EUV 光刻機的價格近 1.5 億美元,而第二代的產品亦已在開發階段。 不過有傳第二代 EUV 光刻機 NXE:5000 研發階段遇到瓶頸,原預計最快 2023 年問世,現在則可能要到 2025 - 2026 年,延後近 3 年,業界憂慮將影響半導體製程開發。而近日日本最大半導體鍍膜蝕