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每台高達 8 億美 !! ASML 正準備新一代 EXE:5200 光刻機,助 Intel 衝擊 2nm 製程

對於晶片廠商而言,光刻機是尤其重要的生產工具,而 ASML 也在積極佈局新的技術。據外媒報導指,截至 2022 Q1,ASML 已出貨 136 個 EUV 系統。 按照官方資料,新型號 NXE:3600D EUV 光刻機系統,可達到 93% 的可用性。而數據顯示,NXE:3600D 每小時可生產 160 個晶圓 (wph),速度為 30mJ/cm,,而正在開發的下一代 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm 的速度提供超過 195 wph 的產能,而在吞吐量升級後達到了 220w

晶片業能否加速恢復就靠它了 - ASML 表示 EUV 光刻機產能即將提升,以解供不應求

於半導體生產中,光刻機是核心設備,除了決定了晶片製造的製程水準,亦為耗時最多、成本最高的一步。目前先進的 7nm、5nm 及接下來的 3nm 製程皆需要 EUV 光刻機,即使一台要價不菲,仍是供不應求。 EUV 光刻機目前僅有荷蘭 ASML 可以生產,其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前,ASML 資深副總裁 Christophe Fouquet 於高盛會議上確認,將增加 EUV 光刻機的產能。 ASML 原本預計 2025 年的 EUV 光刻機年產能為 70 台,現在決

光刻機一哥 ASML 指控中國企業「東方晶源」盜取技術、出售侵權設備

根據「彭博」的報導,光刻機巨頭 ASML 日前發出警告指中國企業「東方晶源微電子」正在銷售採用侵權技術的產品,呼籲客戶停止與這間公司的往來。 ASML 表示,2021 年發現東方晶源在大陸推銷其新產品,而該產品就是採用 2019 年 XTAL 侵權官司中,被確認竊取來自 ASML 的機密技術。東方晶源還獲得「國家級專精特新小巨人」企業稱號,可見是中國當局大力支持的半導體企業之一。ASML 目前已向北京提出控訴,指東方晶源盜用其技術生產晶片生產設備。 目前市場最先進的晶片光刻機

EUV 生產無望 - 中國半導體企業改為大力加強 DUV 成熟製程產品生產

據外媒報導,中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展,而主因是中國企業受制國際禁令,不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指,因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響,中國的半導體龍頭中芯國際已決定,將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年,並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程,而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的,主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (

未來專注 EUV 技術發展 - Intel 發佈新製程命名 Intel 7、Intel 4 及路線圖

日前 Intel 於會議內公佈了其在晶片製程及封裝的進展,當中包括全新的 CPU 製程路線圖,同時在此可見 Intel 將工藝重新命名了,10nm 命名為 Intel 7,7nm 命名為 Intel 4,未來還會有 Intel 3 及 Intel 20A。 以往由於在這個命名終落後對手,但實際技術上 Intel 的 10nm 製程其實與競爭對手的 7nm 並列,因此對 Intel 的宣傳上很不利。而這次的 10nm Enhanced SuperFin 工藝更命為 Intel 7,但