ASML

日前 Intel 於會議內公佈了其在晶片製程及封裝的進展，當中包括全新的 CPU 製程路線圖，同時在此可見 Intel 將工藝重新命名了，10nm 命名為 Intel 7，7nm 命名為 Intel 4，未來還會有 Intel 3 及 Intel 20A。 以往由於在這個命名終落後對手，但實際技術上 Intel 的 10nm 製程其實與競爭對手的 7nm 並列，因此對 Intel 的宣傳上很不利。而這次的 10nm Enhanced SuperFin 工藝更命為 Intel 7，但

來自荷蘭的半導體光刻機巨頭 ASML 剛剛公佈了 2021 年 Q2 的財務報表。在這個季度上，ASML 的淨銷售額為 40 億歐元，毛利率為 50.9％，淨收入為 10 億歐元，淨預訂額為 83 億歐元，當中 EUV 光刻機就佔了 49 億歐元，而總積壓訂單金額已高達 175 億歐元。 在財報中 ASML 更透露第一台最新款的 TWINSCAN NXE: 3600D EUV 光刻機已交付客戶，對比之前的 NXE:3400C 生產力提高了 15 - 20%，覆蓋率也提高約 30%。ASML

據外媒《華爾街日報》的報道，美國政府將延續了特朗普時期對華禁止出口高科技產品的策略。而近日與荷蘭政府聯繫，要求限制 ASML 生產的 EUV 光刻機出售給中國企業。即使受中國強大的壓力，最終荷蘭政府拒發出口許可。 在拜登就任初期，國家安全顧問 John Sullivan 已與荷蘭討論兩國的「先進技術的緊密合作」協議，並有美國官員指繼續限制 ASML 與中國的業務往來是 John 的首要任務。於 2019 年，美方邀請荷蘭外交人員到白宮時，提出「好的盟友不會把將這類先進設備賣往中國」

生產先進製程的晶圓片，EUV 光刻機是關鍵之一。而荷蘭 ASML 是全球唯一量產 EUV 光刻機的廠商，台積電、Samsung、Intel 的先進製程晶片都以其 EUV 曝光機生產。目前每部第一代的 EUV 光刻機的價格近 1.5 億美元，而第二代的產品亦已在開發階段。 不過有傳第二代 EUV 光刻機 NXE:5000 研發階段遇到瓶頸，原預計最快 2023 年問世，現在則可能要到 2025 - 2026 年，延後近 3 年，業界憂慮將影響半導體製程開發。而近日日本最大半導體鍍膜蝕

ASML 是全球唯一有量產 EUV 光刻機的生產商，而像是 7nm、5nm 甚至 3nm、1nm 等先進製程皆依賴 EUV 光刻機。目前 EUV 光刻機單台售價已逾 1 億美元，購買的成本高昂。 現時 ASML 市售的 EUV 機種還是第一代，EUV 波長約在 13.5nm，物鏡的 NA 值孔徑為 0.33，發展了一系列型號。第一代中，最早量產上市的為 NXE: 3400B，不過其生產晶圓效能僅為 125PWH，而現時出貨主力為 NXE: 3400C，產能提升至 135WPH，底還有會有 NX