ASML

由於受到上年疫情影響，晶片的需求急升，而中國因遭美國制裁而無法購買晶片，故當地跑出不少企業表示以「晶片救國」。而亦因此，對光刻機的需求亦大增，同時因美國的制裁範圍並不包括二手舊機器，所以中國的半導體生產商就開始以這方式來購買設備。 而根據日本的二手晶片生產設備的交易商表示，由於需求急增，去年二手設備價格亦因此上升了兩成。此外其實每年二手機器的價格都在上升，只是上年升幅達到了 20% 之高，然而這只是一般設備的情況，若是關鍵的機器如光刻機，更是一機難求，價格已升到三倍之多。當中，近九成的買家

在今個月中，日本東京舉辦了一場 ITF 論壇。於論壇上，與 ASML 合作研發光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 公佈了 3nm 及以下製程在微縮層面的技術細節。 現昤為止，ASML 對於 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 都有了清晰的路線規劃，且 1nm 時代的光刻機體積將會增大不少。 據指目前台積電、三星的 7nm、5nm 製造中已經引入了 NA=0.33 的 EUV 光刻設備，2nm 後則需要更高解像度的光刻設備，亦即是 NA=0.55。而剛好