根據先前《DigiTimes》的報導，ASML 公司正在考慮推出一款特殊版本的深紫外光刻機（DUV），以符合最新的美國出口規定，並可以無需許可證出口至中國客戶。這款設備將使中芯國際（SMIC）和華虹等公司能夠在 28 納米製程及以上製造晶片，但無法使用更先進的製程。不過，ASML 隨後否認了這份報導。
ASML 在聲明中表示，公司遵守所有適用的法律法規，並未專為中國市場設計任何系統。他們不會對謠言和揣測做進一步回應。
該報導中提到的光刻設備是 Twinscan NXT:1980Di，是目前 ASML 仍在生產的光刻機。該機器具有 1.35 數值孔徑的光學系統，可實現小於 38 納米的解析度，足以應用於 7 納米製程和更先進的製程。事實上，這款於 2016 年推出的光刻機曾被台積電用於開發 7 納米製程技術。
ASML Twinscan NXT:1980Di｜圖片來源：ASML
理論上可以對該設備進行改造，提高最低支持的解析度，以防止中芯國際和其他中國芯片製造商使用低於 28 納米的製程技術。考慮到中芯國際主要收入來自於 28 納米以上的生產製程，中國公司仍然可能對購買這樣的設備感興趣。
根據最新的出口法規，美國企業和個人需要獲得許可證，才能出口製造 14/16 納米製程及以下非平面晶體管的邏輯芯片、128 層以上的 3D NAND 以及 18 納米半間距或更小的 DRAM 記憶芯片的工具和技術。對於從美國出口零組件的非美國企業，如 ASML 和 Twinscan NXT:1980Di，同樣適用這些規定。
荷蘭的最新出口規定要求 ASML 獲得出口許可證，才能向中國企業銷售 Twinscan NXT:2000i 光刻機。目前 ASML 尚未正式推出 Twinscan NXT 的限制版，但如果出口規定繼續限制向中國出售先進技術，則有可能會採取相應的舉措。
資料來源：DigiTime、Tomshardware
