ASML

日本知名的相機和打印機製造商 CANON，於上週五宣佈推出一項關鍵工具，聲稱可以協助生產最先進的半導體。這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司 ASML 的挑戰，後者主導了極紫外（EUV）光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造 5 納米及以下的半導體，這對於製造最新款蘋果 iPhone 等最先進晶片至關重要。 這些機器已被捲入中美技術之爭。由於 ASML 的 EUV 技術在最先進的晶片製造中扮演關鍵角色，因此越來越多的晶片製造商紛紛選擇採用。CANON 表示，他們的最新機

荷蘭半導體設備供應商 ASML Holding NV 成功跨過障礙，獲得新北市政府城鄉發展局的批准，將在林口區興建一座價值新台幣 300 億元（約74 億港幣）的製造廠。根據新北市政府城鄉發展局的聲明，ASML 計畫最早於 2026 年投入這座新廠的運營。而在三年後，當 ASML 完成第一階段的建設時，這座新廠將容納約 2,000 名員工。 ASML 是荷蘭半導體設備製造商，其客戶包括台積電，生產先進的 3 納米和 5 納米芯片的極紫外光刻機（EUV）工具的唯一供應商。然而，ASML 需要

根據先前《DigiTimes》的報導，ASML 公司正在考慮推出一款特殊版本的深紫外光刻機（DUV），以符合最新的美國出口規定，並可以無需許可證出口至中國客戶。這款設備將使中芯國際（SMIC）和華虹等公司能夠在 28 納米製程及以上製造晶片，但無法使用更先進的製程。不過，ASML 隨後否認了這份報導。 ASML 在聲明中表示，公司遵守所有適用的法律法規，並未專為中國市場設計任何系統。他們不會對謠言和揣測做進一步回應。 該報導中提到的光刻設備是 Twinscan NXT:1980Di，

日本政府將加強對半導體製造商 Rapidus 的財務支持，以進一步支持國內生產。Rapidus 成立於 2022 年，旨在於 2025 年或之前在日本本土能製造出 2nm 晶片。截至目前為止，它已經從日本政府獲得了 700 億日元（約 41 億港元）的資金支持，並得到了 TOYOTA、SONY 和電信巨頭 NT＆T 的投資。Rapidus 還得到了 IBM 和比利時 IMC 的國際支持，計劃在日本進行商業化生產，Rapidus 的晶圓廠項目預計需要耗資高達 5 萬億日元（約 2,920 億港元）

荷蘭加入美國對中國限制晶片製造出口的行列。荷蘭政府公佈了最新對中國的出口限制規定，禁止中國購買其最先進的半導體設備。全球最大的半導體裝置製造商 ASML 就座落在荷蘭，新規定僅適用於其深紫外光（DUV）浸沒式光刻機，以限制中國能夠獲得的技術。這是經過兩年多的談判後，由荷蘭和美國及日本共同限制中國接觸先進晶片製造能力。荷蘭政府表示，此舉是為了保護其國家安全。 圖片來源：ASML 去年底，美國對中國實施了限制措施，旨在防止中國生產具有軍事應用的晶片，包括建造超級計算機、模擬核武器或創造先