三星

近日，美國德克薩斯州因暴風雪侵襲，導致多地出現了停電危機，三星於奧斯汀 Austin 晶圓廠暫時關閉，同時亦影響到了 NXP 半導體和 Infineon 半導體，這很有可能加劇全球晶片供應危機帶來的影響。據悉，當地的電費現價比上星期五急升 3466%，部分高耗電的企業也開始被要求停產，包括前面所提及的 3 個企業的廠房。若果今次美國冬季風暴引發的電力危機範圍的持續擴大，甚至可能會引發美國更多的晶圓廠面臨停產。 圖片源自美國國家氣象局 美國目前愛受嚴寒天氣影響的區域還有以下等

近日有報導指，Intel 計劃將一些晶片的製造外判給台積電，至於合作將瞄準的是 2022 年的 3nm。沒想到另一個新消息又指，AMD 正在考慮交由三星生產未來部份 APU 與 GPU。 考慮現時 Ryzen 產品取得的重大成功，AMD 希望提高產量亦是無可厚非。由此舉看來應是台積電未能滿足 AMD 的產量需求，因為除了 AMD，台積電還要優先處理 Apple 的訂單。AMD 除可能因三星是第二大代工企業，紙面技術水平也同樣先進，另外還有傳其報價便宜。 同時消息亦指 AMD

Samsung 在大力投資晶片代工後，的確取得不少大訂單，如 NVIDIA 的 Ampere GPU (8nm)、Qualcomm Snapdragon 888 (5nm)、IBM Power 處理器 (7nm) 等等，還有為自家 Galaxy 手機的 Exynos 晶片。 不過，根據 Digitimes 在最新的報導上表示，NVIDIA RTX 30 系列 Ampere 顯示卡缺貨的主因是 Samsung 8nm 良率低引致的，使導 GPU 晶片供不應求。此前對於 RTX 30

繼早兩天 SK Hynix 宣佈在 M14 和建設中的 M16 工廠中引入 EUV 光刻機後，三星也要來跟上了。按照三星的說法，由 2014 年以來，採用 EUV 光刻的晶圓超過了400 萬片，公司已積累了豐富的經驗，亦比其它廠商掌握更多生產訣竅，領先對手約 1 到 2 年的差距。 https://www.youtube.com/watch?v=skUCP2f4HIM&feature=emb_title 消息指三星的 1z nm DRAM 第三代記憶體已用上了一層 EUV，而第四代

在今個月中，日本東京舉辦了一場 ITF 論壇。於論壇上，與 ASML 合作研發光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 公佈了 3nm 及以下製程在微縮層面的技術細節。 現昤為止，ASML 對於 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 都有了清晰的路線規劃，且 1nm 時代的光刻機體積將會增大不少。 據指目前台積電、三星的 7nm、5nm 製造中已經引入了 NA=0.33 的 EUV 光刻設備，2nm 後則需要更高解像度的光刻設備，亦即是 NA=0.55。而剛好