作為摩爾定律的提出者，Intel 也可說是最堅定的摩爾定律捍衛者，多次表示半導體製程還會繼續提升下去。於現有 4 年掌握 5 代 CPU 製程後，Intel 還啟動了未來兩代的 CPU 製程研發，目標已逼近 1 nm 製程了。
Intel 的 5 代 CPU 製程分別是：Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A 及 Intel 18A。當中 Intel 7 已於 2021 年的第 12 代 Core 處理器上首發，Intel 4 則會於今年下半年的第 14 代 Core 處理器上首發，另外還會首次採用 EUV 極紫外光微影。
Intel 3 為 Intel 4 的升級版，Intel 20A 及之後的 18A 則是重大升級，相當於競爭對手的 2nm、1.8nm 製程，計劃於 2024 年上半年及下半年量產，2025 年將重新奪回半導體製程的領導地位。
再之後 Intel 的規劃藍圖上則尚未提及新的製程，不過最新消息指，Intel 已經啟動了未來兩代製程的定義及研發，但未有明確的資訊。據 IMEC 之前公布的晶片製程規劃藍圖來看，2nm 製程之後是 14A，亦即 1.4 nm 製程，預計 2026 年推出，再往後就是 A10 製程，亦即 1 nm，2028 年推出。
Intel 要研發的未來兩代製程應該亦為 1.4 nm、1 nm 等級的，具體的命名仍要等官方確定，畢竟時間尚早。2 nm 之後的製程還要升級生產設備，目前的 EUV 光刻機屆時效率亦不高了，ASML 預計會於 2026 年推出 High NA 技術的下一代 EUV 光刻機 EXE:5000 系列，將 NA 指標從目前的 0.33 提升至 0.55，進一步提升微影解像度。
不過下一代 EUV 光刻機的成本亦會大漲，目前售價約 1.5 億美元左右，價格預期超過 4 億美元。
