於半導體生產中，光刻機是核心設備，除了決定了晶片製造的製程水準，亦為耗時最多、成本最高的一步。目前先進的 7nm、5nm 及接下來的 3nm 製程皆需要 EUV 光刻機，即使一台要價不菲，仍是供不應求。
EUV 光刻機目前僅有荷蘭 ASML 可以生產，其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前，ASML 資深副總裁 Christophe Fouquet 於高盛會議上確認，將增加 EUV 光刻機的產能。
ASML 原本預計 2025 年的 EUV 光刻機年產能為 70 台，現在決定提升至每年 90 台，有助於紓解產能不足的問題。
今年第二季尚未結束，ASML 即收到了超過 100 台 EUV 光刻機的訂單，此已大幅超過了其產能。ASML 今年原計劃出貨 EUV 光刻機不過 55 台，僅能滿足一半的訂單量，客戶皆需排隊等待。
