光刻機

賣相機鏡頭的 CANON 挑戰 ASML,推納米壓印光刻機,改裝後可進行 2nm 光刻!

日本知名的相機和打印機製造商 CANON,於上週五宣佈推出一項關鍵工具,聲稱可以協助生產最先進的半導體。這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司 ASML 的挑戰,後者主導了極紫外(EUV)光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造 5 納米及以下的半導體,這對於製造最新款蘋果 iPhone 等最先進晶片至關重要。 這些機器已被捲入中美技術之爭。由於 ASML 的 EUV 技術在最先進的晶片製造中扮演關鍵角色,因此越來越多的晶片製造商紛紛選擇採用。CANON 表示,他們的最新機

ASML 否認正在研發專為中國市場設計的光刻機,也並未為中國市場設計任何系統!

根據先前《DigiTimes》的報導,ASML 公司正在考慮推出一款特殊版本的深紫外光刻機(DUV),以符合最新的美國出口規定,並可以無需許可證出口至中國客戶。這款設備將使中芯國際(SMIC)和華虹等公司能夠在 28 納米製程及以上製造晶片,但無法使用更先進的製程。不過,ASML 隨後否認了這份報導。 ASML 在聲明中表示,公司遵守所有適用的法律法規,並未專為中國市場設計任何系統。他們不會對謠言和揣測做進一步回應。 該報導中提到的光刻設備是 Twinscan NXT:1980Di,

荷蘭為保護國家安全,限制 ASML 光刻機出口至中國,中方倡成立晶片聯盟對抗!

荷蘭加入美國對中國限制晶片製造出口的行列。荷蘭政府公佈了最新對中國的出口限制規定,禁止中國購買其最先進的半導體設備。全球最大的半導體裝置製造商 ASML 就座落在荷蘭,新規定僅適用於其深紫外光(DUV)浸沒式光刻機,以限制中國能夠獲得的技術。這是經過兩年多的談判後,由荷蘭和美國及日本共同限制中國接觸先進晶片製造能力。荷蘭政府表示,此舉是為了保護其國家安全。 圖片來源:ASML 去年底,美國對中國實施了限制措施,旨在防止中國生產具有軍事應用的晶片,包括建造超級計算機、模擬核武器或創造先

比 ASML EUV 光刻機更先進,美國公司開發出可生產 0.7nm 晶片的光刻系統

目前 5nm 及以下的半導體先進製程皆用到 ASML 所製造的 EUV 光刻機,當中可用以生製 2nm 製程的新一代 0.55 NA EUV 光刻機售價高達 4 億美元。不過要實現比 1nm 更精細的先進製程,目前 ASML 已推出的 EUV 光刻機也暫時未能做到。 而近日美國原子精密製造公司 Zyvex Labs 則發佈了全球最高解像度的光刻機系統「Zyvex Litho1」,其厲害之處是可生產 0.7nm 製程的晶片。「Zyvex Litho1」並不是採用 EUV 光刻技術,而

每台高達 8 億美 !! ASML 正準備新一代 EXE:5200 光刻機,助 Intel 衝擊 2nm 製程

對於晶片廠商而言,光刻機是尤其重要的生產工具,而 ASML 也在積極佈局新的技術。據外媒報導指,截至 2022 Q1,ASML 已出貨 136 個 EUV 系統。 按照官方資料,新型號 NXE:3600D EUV 光刻機系統,可達到 93% 的可用性。而數據顯示,NXE:3600D 每小時可生產 160 個晶圓 (wph),速度為 30mJ/cm,,而正在開發的下一代 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm 的速度提供超過 195 wph 的產能,而在吞吐量升級後達到了 220w