ASML 是全球唯一有量產 EUV 光刻機的生產商，而像是 7nm、5nm 甚至 3nm、1nm 等先進製程皆依賴 EUV 光刻機。目前 EUV 光刻機單台售價已逾 1 億美元，購買的成本高昂。
現時 ASML 市售的 EUV 機種還是第一代，EUV 波長約在 13.5nm，物鏡的 NA 值孔徑為 0.33，發展了一系列型號。第一代中，最早量產上市的為 NXE: 3400B，不過其生產晶圓效能僅為 125PWH，而現時出貨主力為 NXE: 3400C，產能提升至 135WPH，底還有會有 NXE: 3600D 系列出貨，產能再提升至 160WPH，不過價格也上升到了 1.45 億美元。
不過對於未來更先進的製程而言，目前第一代的 NA 指標太低，第二代 EUV 光刻機會 NXE：5000 系列的物鏡 NA 值將提升至 0.55，進一步提高光刻精確度，特別是若半導體程製突破 1nm 時，便需要新一代光刻機才能達到生產標準。
原本預期最快 2023 年面世的第二代 EUV 光刻機，不過從最新傳出的消息指其進展似乎並不怎麼順利。根據這個傳聞指 NXE: 5000 系列「跳票」，並將延遲三年到 2025 – 2026 年才有機會問世。除了時間延期外，第二代 EUV 光刻機的售價亦跟隨曝漲，預計輕鬆升至 3 億美元，是現時 EUV 光刻機的 2 – 3 倍。這亦代表著未來先進製程的晶生產成本極為昂貴，即使能生產 1nm 製程，其生產成本亦會令不少公司卻步。
