光刻機

於半導體生產中，光刻機是核心設備，除了決定了晶片製造的製程水準，亦為耗時最多、成本最高的一步。目前先進的 7nm、5nm 及接下來的 3nm 製程皆需要 EUV 光刻機，即使一台要價不菲，仍是供不應求。 EUV 光刻機目前僅有荷蘭 ASML 可以生產，其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前，ASML 資深副總裁 Christophe Fouquet 於高盛會議上確認，將增加 EUV 光刻機的產能。 ASML 原本預計 2025 年的 EUV 光刻機年產能為 70 台，現在決

據外媒報導，中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展，而主因是中國企業受制國際禁令，不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指，因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響，中國的半導體龍頭中芯國際已決定，將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程，而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的，主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (

由於受到上年疫情影響，晶片的需求急升，而中國因遭美國制裁而無法購買晶片，故當地跑出不少企業表示以「晶片救國」。而亦因此，對光刻機的需求亦大增，同時因美國的制裁範圍並不包括二手舊機器，所以中國的半導體生產商就開始以這方式來購買設備。 而根據日本的二手晶片生產設備的交易商表示，由於需求急增，去年二手設備價格亦因此上升了兩成。此外其實每年二手機器的價格都在上升，只是上年升幅達到了 20% 之高，然而這只是一般設備的情況，若是關鍵的機器如光刻機，更是一機難求，價格已升到三倍之多。當中，近九成的買家

早前有消息指台積電 TSMC 正在籌集更多資金，目的是向 ASML 購入更多更先進製程的 EUV 光刻機，而這些都是為了新製程做好準備。 在不久前歐洲微電子研究中心 IMEC 的 CEO 在線上演講中表示，在與 ASML 的合作下，更先進的光刻機已經取得了重大進展。同示透露 IMEC 的目標是將下一代高解像度 EUV 光刻技術 (High-NA EUV) 商業化。由於此前的光刻機競爭對手早已陸續退出市場，目前 ASML 可說是把握著全球主要的先進光刻機產能。近年來，IMEC 一直與 ASM

在今個月中，日本東京舉辦了一場 ITF 論壇。於論壇上，與 ASML 合作研發光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 公佈了 3nm 及以下製程在微縮層面的技術細節。 現昤為止，ASML 對於 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 都有了清晰的路線規劃，且 1nm 時代的光刻機體積將會增大不少。 據指目前台積電、三星的 7nm、5nm 製造中已經引入了 NA=0.33 的 EUV 光刻設備，2nm 後則需要更高解像度的光刻設備，亦即是 NA=0.55。而剛好