光刻機

比 ASML EUV 光刻機更先進,美國公司開發出可生產 0.7nm 晶片的光刻系統

目前 5nm 及以下的半導體先進製程皆用到 ASML 所製造的 EUV 光刻機,當中可用以生製 2nm 製程的新一代 0.55 NA EUV 光刻機售價高達 4 億美元。不過要實現比 1nm 更精細的先進製程,目前 ASML 已推出的 EUV 光刻機也暫時未能做到。 而近日美國原子精密製造公司 Zyvex Labs 則發佈了全球最高解像度的光刻機系統「Zyvex Litho1」,其厲害之處是可生產 0.7nm 製程的晶片。「Zyvex Litho1」並不是採用 EUV 光刻技術,而

每台高達 8 億美 !! ASML 正準備新一代 EXE:5200 光刻機,助 Intel 衝擊 2nm 製程

對於晶片廠商而言,光刻機是尤其重要的生產工具,而 ASML 也在積極佈局新的技術。據外媒報導指,截至 2022 Q1,ASML 已出貨 136 個 EUV 系統。 按照官方資料,新型號 NXE:3600D EUV 光刻機系統,可達到 93% 的可用性。而數據顯示,NXE:3600D 每小時可生產 160 個晶圓 (wph),速度為 30mJ/cm,,而正在開發的下一代 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm 的速度提供超過 195 wph 的產能,而在吞吐量升級後達到了 220w

晶片業能否加速恢復就靠它了 - ASML 表示 EUV 光刻機產能即將提升,以解供不應求

於半導體生產中,光刻機是核心設備,除了決定了晶片製造的製程水準,亦為耗時最多、成本最高的一步。目前先進的 7nm、5nm 及接下來的 3nm 製程皆需要 EUV 光刻機,即使一台要價不菲,仍是供不應求。 EUV 光刻機目前僅有荷蘭 ASML 可以生產,其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前,ASML 資深副總裁 Christophe Fouquet 於高盛會議上確認,將增加 EUV 光刻機的產能。 ASML 原本預計 2025 年的 EUV 光刻機年產能為 70 台,現在決

EUV 生產無望 - 中國半導體企業改為大力加強 DUV 成熟製程產品生產

據外媒報導,中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展,而主因是中國企業受制國際禁令,不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指,因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響,中國的半導體龍頭中芯國際已決定,將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年,並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程,而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的,主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (

舊款光刻機亦可炒 ? 日媒報導指中國瘋搶二手光刻機,價格比新機還貴

由於受到上年疫情影響,晶片的需求急升,而中國因遭美國制裁而無法購買晶片,故當地跑出不少企業表示以「晶片救國」。而亦因此,對光刻機的需求亦大增,同時因美國的制裁範圍並不包括二手舊機器,所以中國的半導體生產商就開始以這方式來購買設備。 而根據日本的二手晶片生產設備的交易商表示,由於需求急增,去年二手設備價格亦因此上升了兩成。此外其實每年二手機器的價格都在上升,只是上年升幅達到了 20% 之高,然而這只是一般設備的情況,若是關鍵的機器如光刻機,更是一機難求,價格已升到三倍之多。當中,近九成的買家