光刻機

目前 5nm 及以下的半導體先進製程皆用到 ASML 所製造的 EUV 光刻機，當中可用以生製 2nm 製程的新一代 0.55 NA EUV 光刻機售價高達 4 億美元。不過要實現比 1nm 更精細的先進製程，目前 ASML 已推出的 EUV 光刻機也暫時未能做到。 而近日美國原子精密製造公司 Zyvex Labs 則發佈了全球最高解像度的光刻機系統「Zyvex Litho1」，其厲害之處是可生產 0.7nm 製程的晶片。「Zyvex Litho1」並不是採用 EUV 光刻技術，而

對於晶片廠商而言，光刻機是尤其重要的生產工具，而 ASML 也在積極佈局新的技術。據外媒報導指，截至 2022 Q1，ASML 已出貨 136 個 EUV 系統。 按照官方資料，新型號 NXE:3600D EUV 光刻機系統，可達到 93% 的可用性。而數據顯示，NXE:3600D 每小時可生產 160 個晶圓 (wph)，速度為 30mJ/cm，，而正在開發的下一代 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm 的速度提供超過 195 wph 的產能，而在吞吐量升級後達到了 220w

於半導體生產中，光刻機是核心設備，除了決定了晶片製造的製程水準，亦為耗時最多、成本最高的一步。目前先進的 7nm、5nm 及接下來的 3nm 製程皆需要 EUV 光刻機，即使一台要價不菲，仍是供不應求。 EUV 光刻機目前僅有荷蘭 ASML 可以生產，其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前，ASML 資深副總裁 Christophe Fouquet 於高盛會議上確認，將增加 EUV 光刻機的產能。 ASML 原本預計 2025 年的 EUV 光刻機年產能為 70 台，現在決

據外媒報導，中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展，而主因是中國企業受制國際禁令，不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指，因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響，中國的半導體龍頭中芯國際已決定，將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程，而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的，主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (

由於受到上年疫情影響，晶片的需求急升，而中國因遭美國制裁而無法購買晶片，故當地跑出不少企業表示以「晶片救國」。而亦因此，對光刻機的需求亦大增，同時因美國的制裁範圍並不包括二手舊機器，所以中國的半導體生產商就開始以這方式來購買設備。 而根據日本的二手晶片生產設備的交易商表示，由於需求急增，去年二手設備價格亦因此上升了兩成。此外其實每年二手機器的價格都在上升，只是上年升幅達到了 20% 之高，然而這只是一般設備的情況，若是關鍵的機器如光刻機，更是一機難求，價格已升到三倍之多。當中，近九成的買家