光刻機
ASML 否認正在研發專為中國市場設計的光刻機,也並未為中國市場設計任何系統!
根據先前《DigiTimes》的報導,ASML 公司正在考慮推出一款特殊版本的深紫外光刻機(DUV),以符合最新的美國出口規定,並可以無需許可證出口至中國客戶。這款設備將使中芯國際(SMIC)和華虹等公司能夠在 28 納米製程及以上製造晶片,但無法使用更先進的製程。不過,ASML 隨後否認了這份報導。
ASML 在聲明中表示,公司遵守所有適用的法律法規,並未專為中國市場設計任何系統。他們不會對謠言和揣測做進一步回應。
該報導中提到的光刻設備是 Twinscan NXT:1980Di,
荷蘭為保護國家安全,限制 ASML 光刻機出口至中國,中方倡成立晶片聯盟對抗!
荷蘭加入美國對中國限制晶片製造出口的行列。荷蘭政府公佈了最新對中國的出口限制規定,禁止中國購買其最先進的半導體設備。全球最大的半導體裝置製造商 ASML 就座落在荷蘭,新規定僅適用於其深紫外光(DUV)浸沒式光刻機,以限制中國能夠獲得的技術。這是經過兩年多的談判後,由荷蘭和美國及日本共同限制中國接觸先進晶片製造能力。荷蘭政府表示,此舉是為了保護其國家安全。
圖片來源:ASML
去年底,美國對中國實施了限制措施,旨在防止中國生產具有軍事應用的晶片,包括建造超級計算機、模擬核武器或創造先
比 ASML EUV 光刻機更先進,美國公司開發出可生產 0.7nm 晶片的光刻系統
目前 5nm 及以下的半導體先進製程皆用到 ASML 所製造的 EUV 光刻機,當中可用以生製 2nm 製程的新一代 0.55 NA EUV 光刻機售價高達 4 億美元。不過要實現比 1nm 更精細的先進製程,目前 ASML 已推出的 EUV 光刻機也暫時未能做到。
而近日美國原子精密製造公司 Zyvex Labs 則發佈了全球最高解像度的光刻機系統「Zyvex Litho1」,其厲害之處是可生產 0.7nm 製程的晶片。「Zyvex Litho1」並不是採用 EUV 光刻技術,而
每台高達 8 億美 !! ASML 正準備新一代 EXE:5200 光刻機,助 Intel 衝擊 2nm 製程
對於晶片廠商而言,光刻機是尤其重要的生產工具,而 ASML 也在積極佈局新的技術。據外媒報導指,截至 2022 Q1,ASML 已出貨 136 個 EUV 系統。
按照官方資料,新型號 NXE:3600D EUV 光刻機系統,可達到 93% 的可用性。而數據顯示,NXE:3600D 每小時可生產 160 個晶圓 (wph),速度為 30mJ/cm,,而正在開發的下一代 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm 的速度提供超過 195 wph 的產能,而在吞吐量升級後達到了 220w
晶片業能否加速恢復就靠它了 - ASML 表示 EUV 光刻機產能即將提升,以解供不應求
於半導體生產中,光刻機是核心設備,除了決定了晶片製造的製程水準,亦為耗時最多、成本最高的一步。目前先進的 7nm、5nm 及接下來的 3nm 製程皆需要 EUV 光刻機,即使一台要價不菲,仍是供不應求。
EUV 光刻機目前僅有荷蘭 ASML 可以生產,其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前,ASML 資深副總裁 Christophe Fouquet 於高盛會議上確認,將增加 EUV 光刻機的產能。
ASML 原本預計 2025 年的 EUV 光刻機年產能為 70 台,現在決