日本知名的相機和打印機製造商 CANON，於上週五宣佈推出一項關鍵工具，聲稱可以協助生產最先進的半導體。這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司 ASML 的挑戰，後者主導了極紫外（EUV）光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造 5 納米及以下的半導體，這對於製造最新款蘋果 iPhone 等最先進晶片至關重要。
這些機器已被捲入中美技術之爭。由於 ASML 的 EUV 技術在最先進的晶片製造中扮演關鍵角色，因此越來越多的晶片製造商紛紛選擇採用。CANON 表示，他們的最新機器名為「FPA-1200NZ2C」，能夠製造等同於 5nm 工藝的半導體，並能縮小至 2nm。
台積電和韓國的三星，兩家最大的先進晶片製造公司，都計劃在 2025 年製造 2nm 米晶片。光刻機對於有效地將晶片設計印刷在最終用於半導體的材料上至關重要。ASML 的機器在這個過程中使用紫外光。佳能表示，他們的機器不需要特殊波長的光源，因此能夠減少能源消耗。
佳能傳統上擅長相機、光學設備和印表機，但隨著世界日益需要用於人工智慧等技術的晶片，佳能已經重新聚焦半導體供應鏈。雖然佳能自 2004 年以來一直在開發其納米壓印光刻（NIL）技術，但該技術在日益複雜的晶片領域並未取得廣泛認可。
資料來源：CNBC
