EUV 光刻機

隊友加入攜手解難 - 有傳 ASML 第二代 EUV 光刻機開發遇瓶頸,東京電子加入提供顯影技術支援

生產先進製程的晶圓片,EUV 光刻機是關鍵之一。而荷蘭 ASML 是全球唯一量產 EUV 光刻機的廠商,台積電、Samsung、Intel 的先進製程晶片都以其 EUV 曝光機生產。目前每部第一代的 EUV 光刻機的價格近 1.5 億美元,而第二代的產品亦已在開發階段。 不過有傳第二代 EUV 光刻機 NXE:5000 研發階段遇到瓶頸,原預計最快 2023 年問世,現在則可能要到 2025 - 2026 年,延後近 3 年,業界憂慮將影響半導體製程開發。而近日日本最大半導體鍍膜蝕

一下子延期 3 年 !! ASML 第二代 EUV NXE:5000 光刻機推遲上市,售價料曝漲至 3 億美金

ASML 是全球唯一有量產 EUV 光刻機的生產商,而像是 7nm、5nm 甚至 3nm、1nm 等先進製程皆依賴 EUV 光刻機。目前 EUV 光刻機單台售價已逾 1 億美元,購買的成本高昂。 現時 ASML 市售的 EUV 機種還是第一代,EUV 波長約在 13.5nm,物鏡的 NA 值孔徑為 0.33,發展了一系列型號。第一代中,最早量產上市的為 NXE: 3400B,不過其生產晶圓效能僅為 125PWH,而現時出貨主力為 NXE: 3400C,產能提升至 135WPH,底還有會有 NX