成熟製程

由於市場需求疲弱，早前台積電傳來的消息也顯示很多大客戶都取消/減少訂單，特別是先進製程的部份。 早前有分析師預測台積電 7nm、6nm 製程利用率於 2023 Q1 將下跌至 40% 區間，5nm、改良版 4nm 製程亦僅有 70-80% 利用率。不過先進製程需求雖大幅下降，反而成熟製程則相當穩定，如 40nm、28nm 及 22nm 等製程，此些成熟製程已經量產 10至 15 年以上。 雖這些成熟製程不可能再用於生產手機、PC 及伺服器等高效能處理器，但是來自汽車市場的需求

據外媒報導，中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展，而主因是中國企業受制國際禁令，不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指，因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響，中國的半導體龍頭中芯國際已決定，將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程，而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的，主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (