光刻機

日本知名的相機和打印機製造商 CANON，於上週五宣佈推出一項關鍵工具，聲稱可以協助生產最先進的半導體。這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司 ASML 的挑戰，後者主導了極紫外（EUV）光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造 5 納米及以下的半導體，這對於製造最新款蘋果 iPhone 等最先進晶片至關重要。 這些機器已被捲入中美技術之爭。由於 ASML 的 EUV 技術在最先進的晶片製造中扮演關鍵角色，因此越來越多的晶片製造商紛紛選擇採用。CANON 表示，他們的最新機

根據先前《DigiTimes》的報導，ASML 公司正在考慮推出一款特殊版本的深紫外光刻機（DUV），以符合最新的美國出口規定，並可以無需許可證出口至中國客戶。這款設備將使中芯國際（SMIC）和華虹等公司能夠在 28 納米製程及以上製造晶片，但無法使用更先進的製程。不過，ASML 隨後否認了這份報導。 ASML 在聲明中表示，公司遵守所有適用的法律法規，並未專為中國市場設計任何系統。他們不會對謠言和揣測做進一步回應。 該報導中提到的光刻設備是 Twinscan NXT:1980Di，

荷蘭加入美國對中國限制晶片製造出口的行列。荷蘭政府公佈了最新對中國的出口限制規定，禁止中國購買其最先進的半導體設備。全球最大的半導體裝置製造商 ASML 就座落在荷蘭，新規定僅適用於其深紫外光（DUV）浸沒式光刻機，以限制中國能夠獲得的技術。這是經過兩年多的談判後，由荷蘭和美國及日本共同限制中國接觸先進晶片製造能力。荷蘭政府表示，此舉是為了保護其國家安全。 圖片來源：ASML 去年底，美國對中國實施了限制措施，旨在防止中國生產具有軍事應用的晶片，包括建造超級計算機、模擬核武器或創造先

目前 5nm 及以下的半導體先進製程皆用到 ASML 所製造的 EUV 光刻機，當中可用以生製 2nm 製程的新一代 0.55 NA EUV 光刻機售價高達 4 億美元。不過要實現比 1nm 更精細的先進製程，目前 ASML 已推出的 EUV 光刻機也暫時未能做到。 而近日美國原子精密製造公司 Zyvex Labs 則發佈了全球最高解像度的光刻機系統「Zyvex Litho1」，其厲害之處是可生產 0.7nm 製程的晶片。「Zyvex Litho1」並不是採用 EUV 光刻技術，而

對於晶片廠商而言，光刻機是尤其重要的生產工具，而 ASML 也在積極佈局新的技術。據外媒報導指，截至 2022 Q1，ASML 已出貨 136 個 EUV 系統。 按照官方資料，新型號 NXE:3600D EUV 光刻機系統，可達到 93% 的可用性。而數據顯示，NXE:3600D 每小時可生產 160 個晶圓 (wph)，速度為 30mJ/cm，，而正在開發的下一代 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm 的速度提供超過 195 wph 的產能，而在吞吐量升級後達到了 220w