台積電

6nm 製程、定位 600 美元? Intel DG2 獨顯效能真的能挑戰 RTX 3070 嗎 ?

日前,Intel 發佈了愈 50 款 CPU 處理器,而當中 GPU 晶片產品亦陸續推出,首款 DG1 獨顯主要已用在 Notebook 上,而第二款獨顯 DG2 則有可能攻佔 NVIDIA RTX 3070 顯示卡的市場。 Intel DG2 獨顯將會使用於針對高效能遊戲領域開發的 Xe HPG 架構上,並會支援光線追蹤。而近日曝出的 Intel 顯示卡驅動中洩漏了 DG2 的部分規格,且明確提到了兩款型號,分別寫了 512 SKU、128 SKU,即代表著 512 Unit (4096

為 1nm 製程做好準備 !! 台積電正籌集資金準備大量添置最先進 High-NA EUV 光刻機

早前有消息指台積電 TSMC 正在籌集更多資金,目的是向 ASML 購入更多更先進製程的 EUV 光刻機,而這些都是為了新製程做好準備。 在不久前歐洲微電子研究中心 IMEC 的 CEO 在線上演講中表示,在與 ASML 的合作下,更先進的光刻機已經取得了重大進展。同示透露 IMEC 的目標是將下一代高解像度 EUV 光刻技術 (High-NA EUV) 商業化。由於此前的光刻機競爭對手早已陸續退出市場,目前 ASML 可說是把握著全球主要的先進光刻機產能。近年來,IMEC 一直與 ASM

Apple 成首發用戶 - 台積電宣佈 2023 年投產 3nm Plus 製程

台積電在研發新製程方面的實力實在太強,今年經已量產 5nm 製程,而接下來的大突破就是 3nm,不久前已宣佈將在 2022 年投入規模量產。不過今日,台積電又宣佈將會在 2023 年推出 3nm 製程的加強版,命名為「3nm Plus」,首輪使用的客戶將會是 Apple。 若 Apple 依舊一年一代晶片,那 2023 年採用 3nm Plus 製程的將會是「A17」晶片。雖然台積電並無透露 3nm Plus 對比 3nm 有什麼變化,但顯然會有更高的電晶體密度、更低的功耗、更高的運作頻率

ASML 可生產 1nm 晶片的 EUV 光刻機已設計完成

在今個月中,日本東京舉辦了一場 ITF 論壇。於論壇上,與 ASML 合作研發光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 公佈了 3nm 及以下製程在微縮層面的技術細節。 現昤為止,ASML 對於 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 都有了清晰的路線規劃,且 1nm 時代的光刻機體積將會增大不少。 據指目前台積電、三星的 7nm、5nm 製造中已經引入了 NA=0.33 的 EUV 光刻設備,2nm 後則需要更高解像度的光刻設備,亦即是 NA=0.55。而剛好

神級開快車? 台積電 2nm 製程出現重大突破,可望於 2023 年試產

近年來,台積電的新製程發展真的是如日中天,7nm 製程已經全面普及,且 5nm 製程亦領先各半導體公司,而 3nm 製程亦準備出爐之際,2nm 製程亦出現好消息。根據最新消息指,台積電 TMC 已經在 2nm 製程上取得一項重大突破。雖未有細節,但是據此預計 2nm 製程有望在 2023 年下半年進行風險性試產,2024 年步入量產階段,進展速度簡直是神級。 台積電還指 2nm 的突破將再次拉開與競爭對手的差距,同時延續摩爾定律,繼續推進 1nm 製程的研發。台積電預計 Apple、Qua