近日，中國在芯片製造領域的一項重大突破，成功研發出 EUV 光刻機的原型機。這項技術被認為是製造高端芯片的關鍵，也代表了中國在半導體技術上的一大步。
EUV 光刻機是目前全球最先進的芯片製造設備，能夠實現 10nm 以下製程的精密芯片生產。然而，該技術一直被荷蘭 ASML 公司壟斷，並且受到美國及其盟國的出口限制政策影響，中國企業難以獲得此類設備。為打破技術封鎖，中國啟動了堪比「曼哈頓計劃」的研發項目，集中資源攻破 EUV 光刻技術。
報導指出，中國企業「路透光電」已成功製造出中國首台 EUV 光刻機原型機。該設備雖然尚未達到商業化應用的水平，但已證明了中國在該領域的技術可行性。專家認為，這一成果為中國在未來全球科技競爭中奠定了重要基礎。
與此同時，國際芯片市場競爭愈加激烈，美國及其盟友正在加強對中國的技術出口限制。中國的這一突破不僅是對技術封鎖的有力回應，也展示了其在高端科技領域的研發能力。據專家分析，雖然中國在 EUV 光刻機的商業化應用上仍需數年時間，但這一成果已為中國芯片製造業帶來希望。
