近日有消息指，台積電將會關閉部份 EUV 光刻機，以以節省電力。
來自半導體業界的爆料者表示，由於先進製程的產能利用率開始下降，且經過評估後的結論是下降趨勢將會持續一段時間，因此台積電計劃由年底起，關閉部分EUV 設備，以節省龐大的電力開支。
據悉，台積電擁有約 80 台 EUV 光刻機，用於生產 7nm、5nm 等先進製程晶片，接下來的 9 月更會用於 3nm 製程，。不過隨著 PC、手機、顯示卡等產品的需求下跌，先進製程的產能需求亦受到直接的影響。
相較以前的 DUV 光刻機，EUV 光刻機需用到高能量激光，且光線因多次折射以致損耗極大，早期效率僅有 0.02%，而目前量產階段雖已大幅提升至 2% 效率，但也代表著依然是會損耗掉大部份電力。
據資料顯示，EUV 光刻機每日生產需耗用 3 萬度電力，一年約為 1,000 萬度，難怪台積電也會考慮關閉 EUV 光刻機器。
