電子行業

日本知名的相機和打印機製造商 CANON，於上週五宣佈推出一項關鍵工具，聲稱可以協助生產最先進的半導體。這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司 ASML 的挑戰，後者主導了極紫外（EUV）光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造 5 納米及以下的半導體，這對於製造最新款蘋果 iPhone 等最先進晶片至關重要。 這些機器已被捲入中美技術之爭。由於 ASML 的 EUV 技術在最先進的晶片製造中扮演關鍵角色，因此越來越多的晶片製造商紛紛選擇採用。CANON 表示，他們的最新機