半導體企

據外媒報導，中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展，而主因是中國企業受制國際禁令，不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指，因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響，中國的半導體龍頭中芯國際已決定，將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備的進口。 EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程，而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的，主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (